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報道発表
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キラー欠陥を従来の10分の1に低減した 第3世代酸化ガリウム100 mmエピウエハーの開発に成功
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世界初、HVPE法で6インチウエハ上への酸化ガリウム成膜に成功
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資金調達実施のお知らせ
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世界初、アンペア級・1200 V耐圧の｢酸化ガリウムショットキーバリアダイオード｣を開発
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高品質 β 型酸化ガリウム 100 ｍｍ エピウエハの開発に成功
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世界最高耐圧の酸化ガリウム縦型トランジスタの開発に成功
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資金調達実施のお知らせ
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高品質β型酸化ガリウム膜形成技術の開発に成功
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世界初、酸化ガリウムエピ膜を用いたトレンチMOS型パワートランジスタの開発に成功
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超低消費電力の酸化ガリウムショットキーバリアダイオードの開発に成功