ノベルクリスタルテクノロジーは、アメリカのメリーランド州で開催されるInternational Workshop on Gallium Oxide and Related Materials(IWGO-6)にて開発成果を発表します。

The International Workshop on Gallium Oxide and Related Materials (IWGO-6)
　開催期間：2026年8月2-7日
　場所：Edward St. John Learning & Teaching Center　>>詳しくはこちら

■公演情報　※現地時間

・2026年8月4日（火）
　セッション：Substrate Development and Material Quality I
　　8:55【招待講演】Cost Analysis of Gallium Oxide Wafer Production and Challenges and Strategies for Cost Reduction
　　9:45　Demonstration of 150 mm (001) β-Ga₂O₃ Substrates Grown by EFG Method

　セッション：Substrate Development and Material Quality II
　　11:40　Growth of β-Ga₂O₃ Crystals by Plling-Down EFG Method with a Raw Material Supply System

・2026年8月5日（水）
　セッション：Plenary Session II
　　8:45【プレナリー講演】From Crystal Growth to Power Devices: The Evolution of Gallium Oxide Technology

　セッション：Epitaxial Growth and Doping Control II
　　11:05　Homoepitaxial Growth on (0-1-1) β-Ga₂O₃ Substrates Using Oxide Vapor Phase Epitaxy

　セッション：IWGO Poster Session III
　　16:00 – 18:00　Growth of 2-inch n-type β-Ga₂O₃ (011) Single Crystal by the VB Method

　セッション：IWGO 2026 Rump Session　
　　18:00 – 20:00

・2026年8月7日（金）
　セッション：Advanced Device Scaling and Fabrication Techniques II
　　11:35　Diffusion Suppression of Mg and High Performance β-Ga₂O₃ Current Blocking Layers by N+Mg Co-Doping Approach

>>Technical Program Schedule (PDF)

詳細はこちら：IWGO-6公式HP