当社では従来、(001)面を主軸としたウエハの口径拡大およびデバイス開発に取組んできました。一方、近年の研究報告によれば、(001)面以外の面方位において、(001)面を上回るエピ膜の純度や平坦性、結晶性を有するエピタキシャル成長が可能であることが明らかになりつつあります。さらに、デバイス特性におきましても、面方位の最適化によりパワー性能指数（PFOM）の向上が期待されています。 このような技術動向を踏まえ、当社はウエハのラインアップを拡張し、(001)面以外の面方位をアカデミアおよび産業界へ積極的に供給する体制を整えました。広範な研究開発の支援を通じて、酸化ガリウムが持つ本来のポテンシャルの解明と、次世代デバイスへの応用展開を加速させることを目的としています。